资源描述：
为了明确起垄内嵌式基质栽培不同垄规格的温热性能,在日光温室中进行大田试验,以土垄T0为对照,设置了窄垄T1、窄垄黑膜T2、矮垄T3、垫高垄T4和标准垄T55种处理,探究栽培垄高度、宽度和覆膜类型对根区温热以及甜椒生长的影响。试验结果表明黑色地膜的增温效果较差,昼夜平均温度较白色地膜低1.0℃左右;高度对根区温度变化的影响表现为白天高温时段高度越高温度越高,夜间则相反;宽度对根区温度变化的影响表现为白天时宽度越宽根区温度越低,夜间相反。虽然各处理根区温度日变化存在一定的差异,但昼夜平均温度均在17.5～19.0℃,彼此间温差在1.0℃左右。栽培垄的高度、宽度和覆膜类...
展开阅读全文
